photo exposure machine紫外线灯5KW电源

i线步进式光刻机NSR-SF150适用于半导体器件的制造。性能：Resolution分辨率≦280nm，Exposure light source曝光光源i-line(365nmwavelength)，Reductionratio缩小倍率1:4Maximumexposurefield，曝光范围26mm×33mm，Throughput产出≧200wafers/hour(300mmwafer,76shots),也可用于200mmwafer。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。通过高速运转的晶圆工作台，实现了每小时200片以上300mm晶圆的高产出。●超高产出采用了适于步进式光刻机的新平台“天钩构造”，同时晶圆工作台可高速运转，从而大幅度降低了振动，并实现了高产出。达到了每小时200片以上300mm晶圆的超高产出。高重合精度采用了“天钩构造”与配重物。并重新配置了空调管路，有利于工作室内的散热。使用ORC制作所生产的7.5KW超高压汞灯，对应型号：NLi-7500AL2。i线步进式光刻机NSR-4425i12,用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率2KW，型号：NLi-2501A。photo exposure machine紫外线灯5KW电源

    罢外线灯是一种能发射露外线的装置，是观察样品黄光和磷光特征必需的工具，也是用于杀消毒的一种物理手段。波长在10~400nm的范围内。相关的灯有强紫外线高压**灯、**金属卤素灯、晒版灯、毛细管超高压**灯、光清洗灯、光盘**灯、紫外线铁灯杀菌消毒灯、短弧气气灯、准分子放电灯。长期以来，紫外线消毒灯是室内空气消毒的高效选择，然而它也可能将空气中的化合物转化为潜在的有害物质。如今，研究人员针对紫外线消毒灯的影响进行建模，发现其在消毒作用和产生空气污染物间存在利弊权衡。研究发现，波长在222纳米的紫外线灯更适合用于室内消毒，因为这种波长的光对人类更安全。相关论文12月2日发表于《环境科学与技术通讯》通常的紫外线消毒灯波长约为254纳米，属于UVC波段，消毒能力强。然而，这一波段的紫外线光可能灼伤眼睛或皮肤，增加眼部疾病和皮肤*的风险。此外，UVC波段的光可能引发空气质量问题，如分解空气中的分子，由此形成氢氧自由基和臭氧等强氧化剂。这些氧化剂可把空气中的挥发性有机化合物转化为过氧化物和醛酮化合物。 185nm紫外线灯240Z22AL采用较好的技术和材料，我们的紫外线灯具有长寿命、低能耗、高紫外线输出等优点。

高压短弧汞灯又称高压汞灯，ORC制作所有30年以上制造经验。

点亮汞灯需要高压启动器配合，目的是提供20KV电压，用于击穿汞灯的阳极/阴极之间的绝缘状态，使其在灯球内形成短路状态，持续放射出电弧。

电源提供电子，运动方向由正电荷移动到负电荷，电子和汞蒸气原子在灯球内相互碰撞，产生热量，100KPa以上的膨胀高压，持续发出紫外线平行光。

根据产品所需紫外线光种类，调整汞液体的充填量和充填稀有气体种类。

波长分布设计跨度UVA，UVB，UVC。

光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。生产集成电路的简要步骤：利用模版去除晶圆表面的保护膜。将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种：模版和晶圆大小一样，模版不动。模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。其中模版随曝光机移动的方式，模版相对曝光机中心位置不变，始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为的主流。无微不至的紫外线解决方案，为半导体工业照亮前路。

扫描步进投影曝光（Scanning-Stepping Project Printing）。90年代末至今，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光区域（Exposure Field）26×33mm。优点：增大了每次曝光的视场；提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性。但是，同时因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求。d. 高精度双面：主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。高精度特制的翻版机构、双视场CCD显微显示系统、多点光源曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式无油真空泵、防震工作台等组成。适用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各种基片的对准曝光。i线步进式光刻机NSR-SF130,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率5KW，型号：NLi-5001AL。高功率紫外线灯功率8KW

i线步进式光刻机NSR-SF140,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率7.5KW，型号：NLi-7500AL2。photo exposure machine紫外线灯5KW电源

オーク製作所

紫外線光量計(Made in japan)

用途:OLED,LED,PCB,IC，LCD工厂，封装工艺中密封框胶水的固化。

特长：紫外线光固化，低能耗，无污染，高效率。

配合光量计，测量365nm峰值波长紫外线灯照度大小。

型番:UV-351

規格:測定波長:310～385nm

測定照度範囲:0.1～100ｍW/cm²

測定光量範囲:1～19999mJ/cm²

繰り返し精度:±1.5%以内

標準構成:

①光量计本体UV-351

②减光filter

③纽扣锂电池

④螺丝刀₋

⑤螺丝刀＋

⑥操作说明书

⑦除尘布

⑧收纳箱 photo exposure machine紫外线灯5KW电源